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常见问题


Q

良好的薄膜须具备那些特性?影响的因素有哪些?

A

通俗的定义为在正常状况下,其应用功能不会失效。想要达到这个目的,一般而言这层薄膜必须具有坚牢的附着力、很低的内应力、针孔密度很少、够强的机械性能、均匀的膜厚、以及足够的抗化学侵蚀性。薄膜的特性主要受到沉积过程、成膜条件、接口层的形成和基材的影响,随后的热处理亦扮演重要角色。

Q

何为化学气相蒸镀(CVD)?主要的优缺点有哪些?

A

优点: (1)真空度要求不高,甚至可以不需要真空,例如热喷覆 (2)沉积速率快,大气CVD可以达到1μm/min (3)与PVD比较的话。化学量论组成或合金的镀膜较容易达成 (4)镀膜的成份多样化,如金属、非金属、半导体、光电材料、钻石薄膜 (5)可以在复杂形状的基材镀膜,甚至渗入多孔的陶瓷 (6)厚度的均匀性良好,低压CVD甚至可以同时镀数十芯片 缺点: (1)热力学及化学反应机制不易了解或不甚了解 (2)需要在高温下进行,有些基材不能承受,甚至和镀膜产生作用 (3)反应气体可能具腐蚀性、毒性或爆炸性,处理时需小心 (4)反应生成物可能残余在镀膜上,成为杂质 (5)基材的遮蔽很难

Q

PVD化学气相沉积法反应步骤可区分为哪五个步骤?

A

(1)不同成份气相前置反应物由主流气体进来,以扩散机制传输基板表面。理想状况下,前置物在基板上的浓度是零,亦即在基板上立刻反应,实际上并非如此。 (2)前置反应物吸附在基板上,此时仍容许该前置物在基板上进行有限程度的表面横向移动。 (3)前置物在基板上进行化学反应,产生沉积物的化学分子,然后经积聚成核、迁移、成长等步骤,后联合一连续的膜。 (4)把多余的前置物以及未成核的气体生成物去吸附。 (5)被去吸附的气体,以扩散机制传输到主流气相,并经传送排出。

Q

TiN氮化钛镀膜具有哪些特点?

A

(1)抗磨损 (2)具亮丽的外观 (3)具安全性,可使用于外科及食品用具。 (4)具润滑作用,可减少磨擦。 (5)具防蚀功能 (6)可承受高温

Q

真空蒸镀可应用在哪些产业?

A

1.镜片的抗反射镀膜(MgO、MgF2、SiO2等),镜片置于半球支顶,一次可镀上百片以上。 2.金属、合金或化合物镀膜,应用于微电子当导线、电阻、光电功能等用途。 3.镀铝或钽于绝缘物当电容之电极。
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